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フォトマスク
ふぉとますく / photomask
シリコンウエハー上に微細な回路パターンを形成するときに使用する,大きさ10~18cm角のガラス板の表面に,髪の毛の数十分の一の,ごく細かいICやLSIの回路のパターンが規則正しく多数写し込まれているもの。これは電子工業のIC・LSI(集積回路)の製造工程において拡散・腐食といった工程に用いられる。フォトマスクには高解像力写真乾板によってパターンをつくったエマルションマスクと,ガラス表面のクロム薄膜をエッチングすることによってパターンをつくるクロムマスクがある。実用的には微細パターンが形成でき,強度が大きいクロムマスクがほとんど用いられる(用い)ている。パターンは電子ビーム露光装置をもちいて電子ビームで描くことが一般的である。また,フォトマスクの製造はゴミのないクリーンルームでおこなわれる。